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光刻膠是一種高分子化合物，主要用于微電子制造中的光刻工藝。光刻膠的質(zhì)量直接影響了微型器件的性能和穩(wěn)定性，因此需要嚴(yán)格控制其生產(chǎn)過程中的溫度和壓力。

客戶是一家從事半導(dǎo)體材料研發(fā)和生產(chǎn)的企業(yè)，客戶在生產(chǎn)光刻膠時(shí)，需要使用高溫高壓的反應(yīng)釜。光刻膠防爆模溫機(jī)是一種用于高溫高壓環(huán)境下的溫度控制設(shè)備，具有整機(jī)隔離式防爆 EXdII BT4，符合國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)，可以在易燃易爆的場(chǎng)所安全使用。PLC編程控制，可以根據(jù)不同的工藝要求設(shè)定溫度、壓力、流量等參數(shù)。

帶冷卻功能，可以在反應(yīng)放熱時(shí)及時(shí)降低溫度，避免過熱或燒壞設(shè)備。

設(shè)計(jì)1 平方( 板式換熱器 )，可以提高換熱效率，節(jié)省能源和空間。

使用時(shí)需要將原料加入反應(yīng)釜中，啟動(dòng)光刻膠防爆模溫機(jī)，設(shè)定溫度為150度，開始反應(yīng)過程，光刻膠防爆模溫機(jī)通過循環(huán)泵將熱油輸送到反應(yīng)釜中，提供所需的熱量。

反應(yīng)期間，光刻膠防爆模溫機(jī)通過PLC控制系統(tǒng)實(shí)時(shí)檢測(cè)反應(yīng)釜內(nèi)的溫度、壓力、流量等數(shù)據(jù)，并根據(jù)設(shè)定值進(jìn)行調(diào)節(jié)。

當(dāng)反應(yīng)放熱時(shí)，光刻膠防爆模溫機(jī)通過冷卻水將多余的熱量帶走，保持反應(yīng)釜內(nèi)的溫度穩(wěn)定。反應(yīng)完成后，關(guān)閉光刻膠防爆模溫機(jī)，將光刻膠從反應(yīng)釜中取出。

光刻膠防爆模溫機(jī)是一種適用于高溫高壓環(huán)境下的溫度控制設(shè)備，它可以有效地滿足光刻膠生產(chǎn)的要求，提高產(chǎn)品的質(zhì)量和效率。